신*기 사진
신*기
기수
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연구분야
(박사학위)CMP 후세정에서 콜로이달 실리카 입자의 부착 및 제거 메커니즘 = Adhesion and Removal Mechanism of Colloidal Silica Particle in Post-CMP Cleaning, (석사학위)다결정 실리콘 cmp의 하이브리드 재료제거 특성